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电镀用正性液态光刻胶MK-E

  (MK-D,MK-212E)洋为中用辊涂用正性液态光刻胶,对各种金属版的附着能力强,代替各种液态负性电镀胶与感光油墨。光阳化学株式会审并提供相关的配套药水。

优点:
(1)涂布适应性及流平性好。
(2)感光膜抗酸性蚀刻性及附着力强,所以蚀刻线条规矩。
(3)对要求尺寸精度高的精细图形尤其适合。
(4)显影宽容度大,操作方便。
(5)剥离容易,用一般的NaOH水溶液即可溶解剥离涂层。

规格:
(1)外观:绿色液体
(2)固含量:36%
(3)黏度:50±2 cp
(4)比重:1.050(25℃)
(5)闪点:52℃
(6)适用法规:危险品第4类第2石油类,危险等级Ⅲ,第2种有机溶剂。

工作特性:
  MK-D型适合PH值3--6,电镀5丝,时间3小时以上。MK-212E型适合PH值1---6,电镀5丝,4小时以下。

MK-D,MK-212E使用的标准程序:
版面预处理--脱脂及化学研磨(光阳印材公司产品)
涂 布--辊涂,膜厚2.0±2.2μm
干 燥--红外双面烘箱,光化IRD-1500型烘箱80-100℃或热风循环干1-3分,80-100℃ 10- 40分
曝 光--超高压水银灯曝光量100-200Mj/cm2
显 影--显影液MDP-E(1:8稀释)25-30℃ 30-60秒
水 洗--喷淋等
电 镀--镀铜,镍,铬等
剥 离--5%NaOH 水溶液 40-50%度,60-90秒


丝印与MK-E之比较
1,因为是液态,涂布后干燥成膜,所以成膜后与基材的密合性能良好。
2,干燥后膜厚2±0.1uM,显影后成线规矩,分辩率高*可达(8uM,干膜仅达30uM)所以特别适合制作高精度图形。
3,显影造成的侧蚀小,显影的时间宽度大(1:8水稀释显影液中30秒到180秒几乎不变)
4,容易剥离,用氢氧化钠水溶液即可以溶解剥离
5,价格上有明显的优势,涂布厚为2uM时,MK-E的使用成本不到1.2万/平米
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